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基于自适应紧框架的非均匀Weibull背景统计分布参数估计方法

摘要

基于自适应紧框架的非均匀Weibull背景统计分布参数估计方法,涉及一种非均匀背景下单元分布参数自适应估计方法。本发明是为了解决现有在非均匀Weibull背景中,由于采用非均匀的参考单元估计背景单元的分布参数,造成估计不准确的问题。本发明所述的方法包括:采用自适应紧框架对由单元分布参数构成的曲面进行稀疏表示;基于背景单元的统计分布构建背景的对数似然函数,并与步骤一中的单元分布参数曲面的稀疏表示以及全变分约束结合,构造分布参数估计的目标函数;对构造的目标函数进行优化,并在优化的过程中不断的更新自适应紧框架,获得各背景单元的分布参数。属于雷达信号处理领域。

著录项

  • 公开/公告号CN111624571A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-09-04

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 哈尔滨工业大学;

    申请/专利号CN202010427388.9

  • 发明设计人 李杨;伍龙山;张宁;

    申请日2020-05-19

  • 分类号G01S7/41(20060101);G06F17/15(20060101);

  • 代理机构23109 哈尔滨市松花江专利商标事务所;

  • 代理人时起磊

  • 地址 150001 黑龙江省哈尔滨市南岗区西大直街92号

  • 入库时间 2023-06-19 08:09:41

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-10-28

    授权

    发明专利权授予

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