半导体设备及提高静电吸盘吸附晶圆能力的方法

摘要

本发明提供一种半导体设备及提高静电吸盘吸附晶圆能力的方法，半导体设备包括：静电吸盘，用于吸附晶圆；光源，用于将发射的光线照射于吸附在静电吸盘上的晶圆上，以增大晶圆内载流子的浓度，从而增大静电吸盘对所述晶圆的吸附力。本发明的半导体设备通过设置光源对吸附于静电吸盘上的晶圆进行照射，可以增大晶圆内部的载流子浓度，从而增大静电吸盘与晶圆接触的吸附点的电流，从而增大静电吸盘对晶圆的吸附力。