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基于点云法线与曲率变化双约束曲面误差显著点识别方法

摘要

本发明提供基于点云法线与曲率变化双约束的曲面误差显著点识别方法,包括以下:使用扫描仪对工件扫描,得到点云数据;对点云数据进行滤波去噪,采用kd‑tree方法对点云进行划分;在kd‑tree中使用K近邻差找建立每一个点与其邻近点的邻域关系,并求取点云法线、曲率;采用基于深度优先搜索的区域生长算法对整个点云进行遍历,添加点云法线与曲率变化的双约束作为区域生长的限制条件;对区域生长得到的区域进行筛选,去除极小、极大区域;对剩余的相邻区域进行合并,得到识别出的误差显著点点云;对识别得到的误差显著点点云进行边界提取,同时确定出误差显著点的位置信息。本发明提供的有益效果是:提高了点云误差显著点识别的搜索效率、准确率和位置精确度。

著录项

  • 公开/公告号CN111986308A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-11-24

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN202010675830.X

  • 申请日2020-07-14

  • 分类号G06T17/00(20060101);G06T15/00(20110101);G06T7/11(20170101);G06T7/13(20170101);

  • 代理机构42238 武汉知产时代知识产权代理有限公司;

  • 代理人易滨

  • 地址 430000 湖北省武汉市东湖新技术开发区高新大道999号海外人才大楼A座5楼534室

  • 入库时间 2023-06-19 08:04:59

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2023-09-01

    授权

    发明专利权授予

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