公开/公告号CN111799184A
专利类型发明专利
公开/公告日2020-10-20
原文格式PDF
申请/专利权人 深圳安博电子有限公司;
申请/专利号CN202010534048.6
申请日2020-06-12
分类号H01L21/50(20060101);H01L21/304(20060101);H01L21/683(20060101);H01L21/78(20060101);
代理机构44414 深圳中一联合知识产权代理有限公司;
代理人李金伟
地址 518000 广东省深圳市龙岗区宝龙工业区清风大道与宝龙四路交叉口东北侧清风路28号
入库时间 2023-06-19 08:00:20
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2022-03-04
专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):H01L21/50 专利号:ZL2020105340486 变更事项:专利权人 变更前:深圳米飞泰克科技有限公司 变更后:深圳米飞泰克科技股份有限公司 变更事项:地址 变更前:518000 广东省深圳市龙岗区宝龙街道清风大道28号安博科技厂区1号厂房1、5、6层 变更后:518000 广东省深圳市龙岗区宝龙街道清风大道28号安博科技厂区1号厂房1、5、6层
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
机译: 晶圆支持部件,一种用于制造晶圆的相同方法和晶圆抛光单元的方法,能够应用于晶圆的最终抛光工艺
机译: 形成晶圆晶圆的方法和使用晶圆晶圆制造晶圆的方法
机译: 晶片平坦度评估方法及实施该评估方法的装置;使用评估方法的晶圆生产方法,使用评估方法的晶圆质量保证方法,使用评估方法的半导体器件生产方法以及使用评估方法评估的晶圆的半导体器件生产方法