公开/公告号CN111796485A
专利类型发明专利
公开/公告日2020-10-20
原文格式PDF
申请/专利权人 常州瑞择微电子科技有限公司;
申请/专利号CN202010741764.1
申请日2020-07-29
分类号G03F7/16(20060101);
代理机构11569 北京高沃律师事务所;
代理人代芳
地址 213000 江苏省常州市新北区长江中路25号2号楼5楼西
入库时间 2023-06-19 08:00:20
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2023-06-23
授权
发明专利权授予
机译: 用于将光掩模或光掩模的侧面放置和保护具有相对于清洁介质的膜的持有者,一种用于用膜清洁光掩模或光掩模的方法和用于打开和关闭的装置
机译: 去除光刻胶掩模的方法,该光刻胶掩模用于在低K碳掺杂的氧化硅介电材料中制作通孔,并去除通孔形成中的蚀刻残留物并去除光刻胶掩模
机译: 去除光刻胶掩模的方法,该光刻胶掩模用于在低K碳掺杂的氧化硅介电材料中制作通孔,并去除通孔形成中的蚀刻残留物并去除光刻胶掩模