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一种X射线聚焦光学镜片反射率标定系统及方法

摘要

本发明涉及一种X射线聚焦光学镜片反射率标定方法,包括光学镜片安装、标准探测器与光阑安装、抽真空、标定前调节光学镜片、打开单能X射线源、记录不同入射点、不同掠入射角、不同能点下前端标准探测器和后端标准探测器的电流值等主要步骤,最后得到光学镜片圆周方向上4~8个点的反射率曲线标定。本发明通过将光学镜片安装于可在真空状态下工作的二维调节机构上,实现了真空状态下光学镜片的在线调节,避免了光学镜片的反复拆装和测试腔体的反复抽真空与放气,大大提高了标定效率。

著录项

  • 公开/公告号CN111896227A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-11-06

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 北京控制工程研究所;

    申请/专利号CN202010623233.2

  • 申请日2020-06-30

  • 分类号G01M11/02(20060101);

  • 代理机构11009 中国航天科技专利中心;

  • 代理人任林冲

  • 地址 100080 北京市海淀区北京2729信箱

  • 入库时间 2023-06-19 08:00:20

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-09-27

    授权

    发明专利权授予

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