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公开/公告号CN111902572A
专利类型发明专利
公开/公告日2020-11-06
原文格式PDF
申请/专利权人 索泰克公司;
申请/专利号CN201980021529.2
发明设计人 布鲁诺·吉瑟兰;
申请日2019-03-26
分类号C30B23/02(20060101);C30B25/18(20060101);C30B29/30(20060101);C30B33/06(20060101);H01L21/762(20060101);
代理机构11127 北京三友知识产权代理有限公司;
代理人龚泽亮;庞东成
地址 法国伯尔宁
入库时间 2023-06-19 07:58:45
机译: 用于制备LNO材料的单晶层的方法和用于LNO材料的单晶层的外延生长
机译: 生产Lno材料的单晶层的方法和Lno材料的单晶层的表观生长基质
机译: 生产LNO材料的单晶层的方法和LNO材料的单晶层的表观生长的基质
机译:利用硅衬底上外延生长的厚单晶CdTe层开发大面积成像阵列
机译:在SrTiO_3(100)单晶衬底上外延生长FeB / MgO / FeB和FeCoB / MgO / FeCoB三层膜
机译:在MgO单晶衬底上外延生长的Pd / Co / Pd三层膜的结构表征
机译:使用硅衬底上外延生长的厚单晶CdTe层开发大面积成像阵列
机译:使用透明角和原子层沉积技术制造的异质结构超材料的晶状体性能,并使用有限元和光谱椭圆形测定方法分析
机译:011极化Pb(Mg1 / 3Nb2 / 3)O3-PbTiO3单晶和2-2层状复合材料的静水压电性能
机译:在锶上制造的太赫兹超材料的热可调性 钛酸盐单晶衬底
机译:制造微晶或单晶半导体材料的方法