首页> 中国专利> LNO材料单晶层的制造方法和外延生长LNO材料单晶层的衬底

LNO材料单晶层的制造方法和外延生长LNO材料单晶层的衬底

摘要

一种用于生产LNO材料的单晶层的方法,其包括将YSZ材料的单晶晶种层转移到硅材料的载体衬底,随后外延生长所述LNO材料的单晶层。

著录项

  • 公开/公告号CN111902572A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-11-06

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 索泰克公司;

    申请/专利号CN201980021529.2

  • 发明设计人 布鲁诺·吉瑟兰;

    申请日2019-03-26

  • 分类号C30B23/02(20060101);C30B25/18(20060101);C30B29/30(20060101);C30B33/06(20060101);H01L21/762(20060101);

  • 代理机构11127 北京三友知识产权代理有限公司;

  • 代理人龚泽亮;庞东成

  • 地址 法国伯尔宁

  • 入库时间 2023-06-19 07:58:45

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号