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无机材料基板的加工方法、器件及器件的制造方法

摘要

本发明提供一种基板的加工方法,其中,在第二工序中,多个变质部中的只有一部分从掩模的开口部露出,余部未露出。该情况下,在第三工序的蚀刻时,能够通过从掩模的开口部露出的变质部和未露出的变质部而使蚀刻速率不同。因此,通过调整从掩模的开口部露出的变质部和未露出的变质部,而能够容易地得到期望的加工形状。

著录项

  • 公开/公告号CN111791372A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-10-20

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 TDK株式会社;

    申请/专利号CN202010194608.8

  • 发明设计人 上岛聪史;

    申请日2020-03-19

  • 分类号B28D1/00(20060101);B28D5/04(20060101);B23K26/53(20140101);C03C15/00(20060101);C03C23/00(20060101);C30B33/00(20060101);B81B7/02(20060101);B81C1/00(20060101);

  • 代理机构11322 北京尚诚知识产权代理有限公司;

  • 代理人杨琦;尹明花

  • 地址 日本东京都

  • 入库时间 2023-06-19 07:57:16

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-04-19

    授权

    发明专利权授予

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