用于形成膜密度提高了的抗蚀剂下层膜的组合物

摘要

本发明的课题是提供用于形成膜密度、硬度、杨氏模量、扭曲耐性(图案的弯曲耐性)高，由此具有高的蚀刻耐性的抗蚀剂下层膜的抗蚀剂下层膜形成用组合物。解决手段是一种抗蚀剂下层膜形成用组合物，其包含具有下述式(1)所示的重复单元结构的酚醛清漆树脂，(在式(1)中，基团A和基团B各自为具有芳香族环、稠合芳香族环、或稠合芳香族杂环的有机基，并且具有下述结构：该基团A和/或基团B中的该环上的氢原子被选自通过氧化而发生质量增加的化学基(a)、通过加热而发生交联形成的化学基(b)、和在固化中诱发相分离的化学基(c)中的相同种类或不同种类的2个以上1价或2价的化学基分别取代了。)。该组合物还包含交联剂、酸和/或产酸剂。通过将该抗蚀剂下层膜形成用组合物涂布在半导体基板上进行烧成来获得的抗蚀剂下层膜的制造方法。