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一种提高集成电路设计版图DRC审查效率的方法

摘要

本发明提供了一种提高集成电路设计版图DRC审查效率的方法,包括如下步骤:1)导入:将设计版图导入系统,对相关层进行对DRC检查操作,按照设计规则的名称调取DRC规则程序档案的内容,以便使每条设计规则自动找到相关层;2)检查:①选择相应的设计规则,对设计版图的相关层进行检查;②根据检查结果所储存的错误信息坐标点,还原出错误信息坐标点对应的版图图像;③对错误信息坐标点对应的版图图像进行优化;④将优化后的版图图像叠加于设计版图上;3)显示:在设计版图上直接显示错误信息及错误信息位置,不同类型错误信息的版图图像的颜色不同。上述的方法,不需要人工一条规则一条规则的审查、截图、制作报告。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-01-18

    实质审查的生效 IPC(主分类):G06F17/50 申请日:20180628

    实质审查的生效

  • 2018-12-25

    公开

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