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一种散裂靶靶球表面金属等离子体浸没离子注入与沉积复合强化处理方法

摘要

本发明涉及粉末冶金技术领域,更具体地公开了一种散裂靶靶球表面金属等离子体浸没离子注入与沉积复合强化处理方法,所述强化处理方法包括散裂靶靶球的预处理,TiSiN、TiAlN、TiAlSiN、TiAlSiN/h‑BN离子注入与沉积等步骤。本发明解决了粉末冶金技术制备的非金属间化合物形态的散裂靶钨铁镍靶球磨损率高,薄膜与基体之间残余应力大、膜基结合力差和单一膜层承载能力差等问题,有效抑制了薄膜表面剥落,并能够制备出一种高膜基结合力,高硬度、摩擦系数低、耐磨损能力强的梯度功能复合薄膜。

著录项

  • 公开/公告号CN108977759A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-12-11

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国科学院近代物理研究所;

    申请/专利号CN201811102618.3

  • 发明设计人 吕文泉;何源;王志光;刘杰;

    申请日2018-09-20

  • 分类号C23C14/02(20060101);C23C14/06(20060101);C23C14/16(20060101);C23C14/48(20060101);C23C14/54(20060101);

  • 代理机构62100 甘肃省知识产权事务中心;

  • 代理人马英

  • 地址 730000 甘肃省兰州市城关区南昌路509号中国科学院近代物理研究所

  • 入库时间 2023-06-19 07:37:15

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-01-04

    实质审查的生效 IPC(主分类):C23C14/02 申请日:20180920

    实质审查的生效

  • 2018-12-11

    公开

    公开

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