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一种去除放射性阴离子污染物的正离子共价有机纳米片的制备方法

摘要

一种去除放射性阴离子污染物的正离子共价有机纳米片的制备方法,采用溶剂热法制备,步骤如下:将1,4‑二羟基对苯二甲醛与四氢呋喃或1,4‑二氧六环混合并超声5min,另三氨基胍和去离子水混合超声5min,将两种反应液混合后置于120℃条件下反应3d;获得的暗黄色固体离心分离,将分离的固体分别用N,N‑二甲基甲酰胺分别清洗后真空干燥获得需要的正离子共价有机纳米片材料。本发明的优点:制备的正离子共价有机纳米片正离子位点分布均匀,自剥离产生纳米片稳定性好且纳米片结构可暴露出更多的正离子位点,对高铼酸的结合能力强、吸附动力学快、吸附容量大且材料可重复使用,为高效去除放射性阴离子提供了新的材料。

著录项

  • 公开/公告号CN108970584A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-12-11

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 南开大学;

    申请/专利号CN201810774381.7

  • 发明设计人 杨成雄;达虹鞠;严秀平;

    申请日2018-07-16

  • 分类号B01J20/22(20060101);B01J20/30(20060101);C02F1/28(20060101);G21F9/12(20060101);

  • 代理机构12223 天津耀达律师事务所;

  • 代理人侯力

  • 地址 300071 天津市南开区卫津路94号

  • 入库时间 2023-06-19 07:37:15

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-01-04

    实质审查的生效 IPC(主分类):B01J20/22 申请日:20180716

    实质审查的生效

  • 2018-12-11

    公开

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