一种基于磁控溅射的纳米孔结构金电极的制备方法

摘要

本发明公开了一种基于磁控溅射的纳米孔结构金电极的制备方法，特点是先制备金银合金靶材，再通过磁控溅射制备金银合金薄膜，然后对金银合金薄膜脱合金，清洗干燥后得到具有纳米孔结构的金电极；优点是其工艺简单，耗时较短，对材料没有损伤，且制备得到的金电极的纳米孔均匀、孔径较小、孔隙率高，使得金电极具有足够的韧性，不易损坏；此外，在制备金银合金薄膜时，将铬膜和金膜作为粘结层，可有效防止金银合金薄膜从硅片上脱落，使得金银合金薄膜溅射沉积均匀，进一步保证了金电极的使用性能。