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X-射线曝光区域调节方法、存储介质和X-射线系统

摘要

本发明提供一种X‑射线曝光区域调节方法、存储介质和X‑射线系统。根据一实施方式,X‑射线曝光区域调节方法包括:对待测对象的状态进行实时监控,并在待测对象的状态满足预设条件时获取所述待测对象的初始图像;确定所述初始图像中的感兴趣区域;以及基于所述感兴趣区域的信息设置所述X‑射线曝光区域。本发明能够实现根据待检对象自动调节X‑射线系统中曝光区域,不仅便于操作、提高检查效率,而且能够避免患者受到不必要的辐射。

著录项

  • 公开/公告号CN108937975A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-12-07

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海西门子医疗器械有限公司;

    申请/专利号CN201710358487.4

  • 发明设计人 赫伟;

    申请日2017-05-19

  • 分类号

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 201318 上海市浦东新区周祝公路278号

  • 入库时间 2023-06-19 07:30:52

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-01-01

    实质审查的生效 IPC(主分类):A61B6/00 申请日:20170519

    实质审查的生效

  • 2018-12-07

    公开

    公开

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