一种半导体光刻板清洗的除尘装置

摘要

本发明涉及一种半导体光刻板生产领域，尤其涉及一种半导体光刻板清洗的除尘装置。该装置包括外壳体、上安装板、上顶紧结构、上除尘抽屉、中除尘滚轮输送抽屉、下除尘抽屉和下顶紧机构，所述的上安装板设置在外壳体的上部，在外壳体上设置有抽屉口，所述的上除尘抽屉、中除尘滚轮输送抽屉和下除尘抽屉分别设置在抽屉口内，上除尘抽屉、中除尘滚轮输送抽屉和下除尘抽屉与外壳体之间分别通过滑轨和滑槽相连接；所述的上顶紧结构与下顶紧机构的结构相同，上除尘抽屉和下除尘抽屉的结构相同，上顶紧结构设置在上除尘抽屉的上部，下顶紧机构设置在下除尘抽屉的下部；该装置采用转移辊和粘尘辊除尘，除尘效率高，且采用抽屉式的结构，可以便于更换转移辊和粘尘辊，可以广泛用于工业生产之中。