次世代半導体洗浄技術：つくばセミテクノロジーの枚葉式洗浄装置－Non-Chemical Clean Technology

摘要

昨今、半導体デバイスは、ますますその微細化、新技術、新材料の採用など、進歩の度合いを進めている。 半導体製造プロセス技術もしかりで、半導体洗浄技術は今やパラダイムシフトに直面している。 半導体洗浄技術は、130nmノード以降、歩留向上を含めたさまざまな理由から、長年にわたって愛用してきたバッチ式洗浄技術にくわえ、今や、新枚葉式洗浄技術の時代に突入している。 弊社はこの新枚葉式洗浄技術の時代に高性能、且つ低コスト／環境調和型“無薬品枚葉式洗浄技術”を市場へ提供している。