首页> 中国专利> 一种用于离子囚禁的一体化刀片阱装置

一种用于离子囚禁的一体化刀片阱装置

摘要

本发明公开了一种用于离子囚禁的一体化刀片阱装置,包括第一射频电极、第二射频电极、第三射频电极以及第四射频电极,第一射频电极和第三射频电极以中央囚禁区为中心对称设置,第二射频电极和第四射频电极以中央囚禁区为中心对称设置,其特征在于,还包括基板,第一射频电极、第二射频电极、第三射频电极以及第四射频电极分别与基板一体化设置。本发明装置小巧灵活,使用方便,装配简单,一体化的设计可以减小人工装配导致的离子阱结构不对称问题,从而减小附加微运动,另外,荧光收集区域的设计可以有利于收集荧光。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-06-02

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):G21K1/00 申请公布日:20181113 申请日:20180604

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2018-12-07

    实质审查的生效 IPC(主分类):G21K1/00 申请日:20180604

    实质审查的生效

  • 2018-11-13

    公开

    公开

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号