公开/公告号CN108788940A
专利类型发明专利
公开/公告日2018-11-13
原文格式PDF
申请/专利权人 上海华力微电子有限公司;
申请/专利号CN201810672949.4
申请日2018-06-26
分类号B24B1/00(20060101);B24B37/005(20120101);B24B49/10(20060101);H01L21/66(20060101);
代理机构31237 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙);
代理人智云
地址 201203 上海市浦东新区张江高科技园区高斯路568号
入库时间 2023-06-19 07:09:32
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2018-12-07
实质审查的生效 IPC(主分类):B24B1/00 申请日:20180626
实质审查的生效
2018-11-13
公开
公开
机译: 电光显示装置用基板的制造方法所具备的用于研磨由铜或铜合金构成的配线层的化学机械研磨用水分散液以及该化学机械研磨用水分散液的化学机械研磨方法
机译: 为了制造化学机械研磨用水型分散元件,以及上述分散元件而使用该套件和上述套件的化学机械研磨用水型分散元件的制造方法以及半导体装置的化学机械研磨方法
机译: 化学机械研磨用水型分散元件及其制造方法,用于制造化学机械研磨用水型分散元件的套件以及半导体装置的化学机械研磨方法