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一种使用二氧化硅薄膜作为阻挡层的准单晶硅铸锭用坩埚

摘要

本发明公开了一种使用二氧化硅薄膜作为阻挡层的准单晶硅铸锭用坩埚,所述坩埚的底座内表面设有氮化硅涂层和阻挡层,所述阻挡层为表面通过热氧化法生长有SiO2薄膜的太阳能级单晶硅基片。通过本发明提供的使用二氧化硅薄膜作为阻挡层的准单晶硅铸锭用坩埚铸造的准单晶硅铸锭底部红区宽度可限制到约4mm左右,铸锭的少子寿命大于2μs;有效提高了准单晶硅锭的利用率。将本发明提供的准单晶锭切割成硅片,硅片中的杂质浓度较低,硅片的少子寿命较高,制成电池后的效率较高,其平均转换效率为18%~18.5%。

著录项

  • 公开/公告号CN108754614A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-11-06

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 浙江大学;

    申请/专利号CN201810687268.5

  • 发明设计人 余学功;胡泽晨;杨德仁;

    申请日2018-06-28

  • 分类号C30B35/00(20060101);C30B29/06(20060101);

  • 代理机构33224 杭州天勤知识产权代理有限公司;

  • 代理人胡红娟

  • 地址 310013 浙江省杭州市西湖区余杭塘路866号

  • 入库时间 2023-06-19 07:01:55

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-08-14

    发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):C30B35/00 申请公布日:20181106 申请日:20180628

    发明专利申请公布后的驳回

  • 2018-11-30

    实质审查的生效 IPC(主分类):C30B35/00 申请日:20180628

    实质审查的生效

  • 2018-11-06

    公开

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