一种半导体激光器件及其谐振腔面钝化膜、制作方法

摘要

本申请公开了一种半导体激光器件及其谐振腔面钝化膜、制作方法，该谐振腔面钝化膜包括：钝化层，直接覆盖在半导体激光器件的谐振腔面；保护层，覆盖在所述钝化层上，该保护层是采用化学浴沉积法形成的宽带隙半导体材料。通过上述方式，本申请能够使谐振腔面钝化膜长时间有效，提升半导体激光器件抵抗灾变性光学镜面损伤能力，提升半导体激光器件最高输出功率，进而保证半导体激光器件的可靠性，延长半导体激光器件的使用寿命。