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一种共焦双抛物面天线

摘要

本发明实施例提供一种共焦双抛物面天线,所述共焦双抛物面天线至少包括:主反射面、副反射面以及馈源,其中:所述主反射面和所述副反射面相对设置且共焦;其中,所述主反射面和所述副反射面均为抛物面,且所述主反射面和所述副反射面的焦点相同;所述馈源为能够进行二维电子扫描的有源相控阵馈源,设置在所述副反射面前端。

著录项

  • 公开/公告号CN108649345A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-10-12

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国科学院电子学研究所;

    申请/专利号CN201810326293.0

  • 发明设计人 王楠;欧乃铭;吴亮;王文涛;郎宇;

    申请日2018-04-12

  • 分类号

  • 代理机构北京派特恩知识产权代理有限公司;

  • 代理人王军红

  • 地址 100190 北京市海淀区北四环西路19号

  • 入库时间 2023-06-19 06:44:48

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-08-28

    授权

    授权

  • 2018-11-06

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01Q19/19 申请日:20180412

    实质审查的生效

  • 2018-10-12

    公开

    公开

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