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一种用于电磁加热MOCVD反应室的加热装置

摘要

本发明的一种用于电磁加热MOCVD反应室的加热装置,包括基座和设置在基座底部下方的电磁线圈,基座包括圆柱形的导热体,导热体内底部嵌入有若干可与电磁线圈相配合产生热量的圆环形的感应产热传热体,若干感应产热传热体直径不同且感应产热传热体横截面所在的圆与导热体的横截面所在的圆同心。本发明的有益效果是:本发明调节了由基座产生的热量在基座各方向上的热传导速率,并调节衬底边缘的温度,使衬底的温度分布均匀性提高。

著录项

  • 公开/公告号CN108642477A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-10-12

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 济南大学;

    申请/专利号CN201810533289.1

  • 申请日2018-05-24

  • 分类号C23C16/46(20060101);C23C16/52(20060101);C23C16/18(20060101);

  • 代理机构11429 北京中济纬天专利代理有限公司;

  • 代理人张红军

  • 地址 250000 山东省济南市南辛庄西路336号

  • 入库时间 2023-06-19 06:44:48

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-11-06

    实质审查的生效 IPC(主分类):C23C16/46 申请日:20180524

    实质审查的生效

  • 2018-10-12

    公开

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