法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2018-11-06
实质审查的生效 IPC(主分类):C23C16/458 申请日:20180605
实质审查的生效
2018-10-12
公开
公开
机译: 用于为半导体芯片或电子元件制造提供化学气相沉积反应器的容器的容器残余物称量装置,其使用安装在平台支撑容器上的称重传感器
机译: 化学气相沉积的支持者,能够防止因不均匀加热而生长半导体的物质,一种化学气相沉积设备,以及一种使用化学气相沉积设备的加热方法
机译: 一种用于产生具有氧化作用的沟槽结构的方法,一种用于制造集成半导体电路装置或芯片的方法,一种用于制造半导体元件的方法以及一种利用该方法的半导体集成电路器件,芯片,一种半导体器件的制造方法