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公开/公告号CN108610325A
专利类型发明专利
公开/公告日2018-10-02
原文格式PDF
申请/专利权人 成都师范学院;
申请/专利号CN201810434074.4
发明设计人 邓国伟;汪楠;赵紫羽;张小玲;李仲辉;何诚诚;张理;
申请日2018-05-08
分类号
代理机构上海诺衣知识产权代理事务所(普通合伙);
代理人韩国辉
地址 610020 四川省成都市人民南路3段24号
入库时间 2023-06-19 06:44:48
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2018-10-30
实质审查的生效 IPC(主分类):C07D333/24 申请日:20180508
实质审查的生效
2018-10-02
公开
机译: 包含二恶英和/或联苯噻吩作为共轭桥的二阶非线性光学发色团及其结合装置
机译: 稳定的自由基发色团及其混合物,其制备方法,非线性光学材料及其在非线性光学应用中的用途
机译:二茂铁,[Fe(#eta#〜5-C_5H_5)_2(CO)_2(#eta#-C-CH_3)]〜+ [BF_4]〜-和三噻吩间隔基衍生的有机金属发色团的线性和非线性光学性质。 2-[((E)-2-二茂铁基乙烯基] -5-(2-噻吩基)噻吩的晶体结构
机译:基于二噻吩并噻吩桥和噻吩并噻吩桥的高效二阶非线性光学发色团
机译:新的非线性光学发色团表现出良好的透明度和大的非线性度:以二苯乙烯和锁合三烯为结合共轭桥的发色团的合成和表征
机译:新型供体-受体寡聚噻吩的合成及表征为高效且热稳定的二阶非线性光学发色团
机译:Z-β-(1-取代-4-吡啶鎓)-α-氰基-4-苯乙烯基二氰基甲酰胺非线性光学发色团的合成与稳定性研究。
机译:包含二茂铁八甲基二茂铁和钌茂金属供体和强π受体的偶极二阶非线性光学发色团:晶体结构和π供体强度的比较
机译:用二维mas NmR表征非线性光学聚合物中慢发色团的重新取向。