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光学相位差构件、具备光学相位差构件的复合光学构件、及光学相位差构件的制造方法

摘要

光学相位差构件100具备:透明基体40,其具有凹凸图案80;相位差调整层35,其形成于上述凹凸图案80的凹部70及凸部60的表面;被覆层30,其被覆上述相位差调整层35;间隙部90,其划分于上述凹凸图案80的上述凸部60间,该凹凸图案80是形成了上述相位差调整层35及被覆层30的;及密闭层20,其以将上述凹凸图案80的上述凸部60的顶部60t连结且将上述间隙部90密闭的方式设置于上述凹凸图案80的上部;上述凸部60的折射率n1、上述相位差调整层35的折射率n2、上述被覆层30的折射率n3满足n1<n2<n3。光学相位差构件100即便使用粘着剂与其他构件接合或被施加负荷,亦能够产生所期望的相位差,并且能够以低成本且短时间进行制造。

著录项

  • 公开/公告号CN108603972A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-09-28

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 JXTG能源株式会社;

    申请/专利号CN201780009759.8

  • 发明设计人 后藤正直;须崎吾郎;田中大直;

    申请日2017-01-31

  • 分类号G02B5/30(20060101);G02F1/13363(20060101);

  • 代理机构11127 北京三友知识产权代理有限公司;

  • 代理人王涛;汤在彦

  • 地址 日本东京都

  • 入库时间 2023-06-19 06:41:45

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-01-01

    实质审查的生效 IPC(主分类):G02B5/30 申请日:20170131

    实质审查的生效

  • 2018-09-28

    公开

    公开

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