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反应性溅射装置和反应性溅射方法

摘要

公开了反应性溅射装置和反应性溅射方法。反应溅射装置通过采用靶材和反应性气体以化合物、转移和金属模式中的任何一种执行沉积,其中反应性溅射装置包括惰性气体馈送单元、反应性气体馈送单元、向靶材供给电力的电力供给单元、检测在向靶材供给电力时生成的等离子体发射的检测单元,以及控制单元,该控制单元调节反应性气体的流率以将一波长处的等离子体发射强度或从多个波长处的等离子体发射强度计算的值维持在指定值,并且其中控制单元控制等离子体发射强度或其计算值的指定值,使得转移模式中的阴极电压V与化合物模式中的阴极电压Vc的比V/Vc接近于预设值,这两个阴极电压是在沉积期间检测的。

著录项

  • 公开/公告号CN108570647A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-09-25

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 佳能株式会社;

    申请/专利号CN201810192417.0

  • 发明设计人 广木珠代;

    申请日2018-03-09

  • 分类号C23C14/34(20060101);

  • 代理机构11038 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所;

  • 代理人宋岩

  • 地址 日本东京

  • 入库时间 2023-06-19 06:37:13

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-04-05

    实质审查的生效 IPC(主分类):C23C14/34 申请日:20180309

    实质审查的生效

  • 2018-09-25

    公开

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