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气隙可调节的电子束装置

摘要

提供一种用于处理基底的电子束处理装置。所述装置具有置于室内的电子束生成组件,所述室包括用于加热产生数个电子的丝极。所述装置也可具有箔支撑组件,其设置为引导所述数个电子穿过薄金属箔、离开所述室。所述装置可进一步具有处理组件,其设置为传递所述基底经过所述薄金属箔,从而所述数个电子穿入所述基底,引发化学反应。所述薄金属箔与所述基底之间的气隙距离可以是可调节的。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-06-02

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):C23C14/30 申请公布日:20180831 申请日:20160825

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2018-09-25

    实质审查的生效 IPC(主分类):C23C14/30 申请日:20160825

    实质审查的生效

  • 2018-08-31

    公开

    公开

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