公开/公告号CN108369907A
专利类型发明专利
公开/公告日2018-08-03
原文格式PDF
申请/专利权人 三菱瓦斯化学株式会社;
申请/专利号CN201780004391.6
申请日2017-01-10
分类号
代理机构北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙);
代理人刘新宇
地址 日本东京都
入库时间 2023-06-19 06:32:02
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2018-11-27
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/304 申请日:20170110
实质审查的生效
2018-08-03
公开
公开
机译: 用于赋予半导体基板材料以拒液性的液体组合物和使用该液体组合物的半导体基板的表面处理方法
机译: 用于赋予半导体基板材料以脚醇性的液体组合物和使用该液体组合物的半导体基板的表面处理方法
机译: 向半导体衬底材料赋予疏液性的液体组合物,以及使用该液体组合物的半导体衬底的表面处理方法。