法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2018-08-24
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/203 申请日:20160428
实质审查的生效
2018-07-31
公开
公开
机译: 用于将基板装载到真空处理模块中的设备和方法,用于在真空处理模块中进行真空沉积过程的处理基板的设备和方法以及用于对基板进行真空处理的系统
机译: 用于将基板装载到真空处理模块中的设备和方法,用于在真空处理模块中进行真空沉积过程的处理基板的设备和方法以及用于对基板进行真空处理的系统
机译: 用于将基质加载到真空处理模块中的设备和方法,用于在真空处理模块中处理真空沉积过程中的基质的设备和方法,以及用于基质的真空处理的系统