公开/公告号CN108351513A
专利类型发明专利
公开/公告日2018-07-31
原文格式PDF
申请/专利权人 卡尔蔡司SMT有限责任公司;
申请/专利号CN201680062181.8
发明设计人 H.门兹;
申请日2016-08-31
分类号G02B27/00(20060101);G02B13/14(20060101);G03F7/20(20060101);
代理机构11105 北京市柳沈律师事务所;
代理人王蕊瑞
地址 德国上科亨
入库时间 2023-06-19 06:31:23
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2018-09-11
实质审查的生效 IPC(主分类):G02B27/00 申请日:20160831
实质审查的生效
2018-07-31
公开
公开
机译: 光学系统,即用于微光刻的投影透镜,成像特性改善方法,包括在光学系统的光瞳水平附近布置光学校正装置。
机译: 成像光学系统,用于通过euv-抽象光对像场中的物场成像
机译: 用于将像场成像为像场的成像光学系统和用于照明像场的照明光学系统