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一种压力可控的工业机器人磨抛系统及磨抛方法

摘要

本发明提供了一种压力可控的工业机器人磨抛系统,其特征在于:包括抛光装置、上料装置和控制器;抛光装置包括固定底座、安装座、抛光机构、滑轨一、位置调节机构和气缸;气缸与安装座连接,安装座与滑轨一之间可滑动连接,以实现气缸推动安装座沿滑轨一长度方向移动从而带动抛光机构移动;气缸与控制器连接,以实现控制器控制气缸来控制抛光机构与工件之间的打磨压力;气缸通过位置调节机构设置在固定底座上。该系统可提升磨抛效果,提高生产效率和产品质量。本发明还提供一种可实现抛光机构与工件之间的打磨压力恒定、有效提升磨抛效果、提高生产效率和产品质量的工业机器人磨抛方法。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-08-14

    实质审查的生效 IPC(主分类):B24B29/00 申请日:20171220

    实质审查的生效

  • 2018-07-20

    公开

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