一种Cu-Al梯度薄膜材料及其制备方法

摘要

本发明公开了一种Cu‑Al梯度薄膜材料及其制备方法，所述方法以商业铜箔或钠钙玻璃为基底，以高纯铜靶材铝靶材为溅射材料，高真空多靶磁控溅射设备为制备工具，通过在共溅射沉积的过程中固定铜靶靶位溅射功率、改变铝靶靶位的溅射功率实现膜材料中铜、铝相对含量的调节，通过改变共溅射时间来控制制备薄膜的厚度，最终制备了厚度可变的Cu‑Al梯度薄膜材料。本发明所述方法制备流程短、操作简单，参数控制范围宽，容易实现，梯度层厚度可随意控制等特点，具有良好的商业化前景。