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具有核-壳结构的Ga掺杂的InP量子点及其制备方法

摘要

本发明提供了一种具有核‑壳结构的Ga掺杂的InP量子点及其制备方法。该量子点包括InP纳米晶核、Ga掺杂的InGaP纳米晶中间层以及壳层,Ga掺杂的InGaP纳米晶中间层的组成为InxGayP,壳层为ZnSezS1‑z,其中,1≤x/y≤9,0≤z≤1。该量子点的荧光发射波长在610‑780nm内连续可调,且粒径均匀,其发射峰半峰宽较同波长的单纯InP量子点的明显要小。本发明以PH3为磷源,通过在纳米晶核和壳层之间形成Ga掺杂的InGaP纳米晶中间层,缓解了InP量子点因晶格错配带来的缺陷,具有成本低、环保、操作简单的特点,可广泛应用于照明、显示等领域。

著录项

  • 公开/公告号CN108239535A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-07-03

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 苏州星烁纳米科技有限公司;

    申请/专利号CN201611213969.2

  • 发明设计人 张卫;张超;王允军;

    申请日2016-12-23

  • 分类号C09K11/88(20060101);C09K11/02(20060101);

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 215123 江苏省苏州市工业园区金鸡湖大道99号纳米城NW06-403

  • 入库时间 2023-06-19 05:48:18

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-07-27

    实质审查的生效 IPC(主分类):C09K11/88 申请日:20161223

    实质审查的生效

  • 2018-07-03

    公开

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