公开/公告号CN108138013A
专利类型发明专利
公开/公告日2018-06-08
原文格式PDF
申请/专利权人 东丽株式会社;
申请/专利号CN201680061574.7
申请日2016-10-24
分类号C09J7/30(20180101);B32B27/00(20060101);B32B27/34(20060101);C09J7/00(20180101);C09J11/04(20060101);C09J11/06(20060101);C09J179/08(20060101);C09J183/04(20060101);C09J183/08(20060101);H01L21/304(20060101);
代理机构11256 北京市金杜律师事务所;
代理人杨宏军;李国卿
地址 日本东京都
入库时间 2023-06-19 05:32:39
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2018-07-03
实质审查的生效 IPC(主分类):C09J7/30 申请日:20161024
实质审查的生效
2018-06-08
公开
公开
机译: 玻璃基板的转印方法,使用该玻璃基板的转印方法的玻璃基板的层叠体的形成方法,玻璃基板的转印装置,具有玻璃基板的转印装置的玻璃基板的层叠体的形成系统,以及用于制造玻璃的玻璃基板的转印方法的工序磁记录介质用基板的制造方法,其使用玻璃基板层叠体形成方法来制造磁记录介质用玻璃基板
机译: 临时接合材料,层叠体,层叠体的制造方法,器件基板的制造方法以及半导体器件的制造方法
机译: 具有氮化铝单晶层的层叠体的制造方法,通过配制工序制造的层叠体,使用该层叠体的氮化铝单晶基板的制造方法以及氮化铝单晶基板