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一种铋基复合光催化剂降解印染废水的处理工艺

摘要

本发明公开了一种光催化降解印染废水的处理工艺,其采用的光催化剂为铋纳米团簇‑铋纳米粒子/TiO2/石墨烯复合光催化剂。该催化剂首先制得氧化石墨烯,然后在其片层上负载具有光催化活性的TiO2,再将铋纳米团簇修饰到负载有TiO2的石墨烯片层上,并对其进行光还原,该复合光催化剂针对印染废水具有高催化降解活性。本发明解决了现有技术中印染废水降解效率低的问题,适用于降解印染废水中的有机染料。

著录项

  • 公开/公告号CN108144599A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-06-12

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 李雪琴;

    申请/专利号CN201711421075.7

  • 发明设计人 李雪琴;

    申请日2017-12-25

  • 分类号B01J23/18(20060101);C02F1/30(20060101);C02F101/30(20060101);C02F103/30(20060101);

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 251700 山东省滨州市惠民县糖坊街143号

  • 入库时间 2023-06-19 05:31:18

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-07-06

    实质审查的生效 IPC(主分类):B01J23/18 申请日:20171225

    实质审查的生效

  • 2018-06-12

    公开

    公开

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