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两类3‑位含吡啶取代基团芳炔前体及其制备

摘要

本发明公开了两类3‑位含吡啶取代基团的芳炔前体及其制备。该3‑位含吡啶取代基团的芳炔前体的合成方法包括非传统1,2‑二芳炔前体的合成、利用非传统1,2‑二芳炔前体与吡啶/V‑氧化物一锅煮进行反应,高效地制备了3‑位含吡啶取代基团芳炔前体A,B两个步骤。本发明的技术效果是:首先,实现了两类3‑位含吡啶取代基团的芳炔前体A,B的制备,该化合物及其合成方法在有机物合成和药物合成领域具有广阔的应用前景;其次,此方法合成方法简便,能大量制备。

著录项

  • 公开/公告号CN107936050A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-04-20

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 重庆大学;

    申请/专利号CN201711235636.4

  • 发明设计人 李杨;吕春杰;

    申请日2017-11-30

  • 分类号

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 400044 重庆市沙坪坝区沙正街174号

  • 入库时间 2023-06-19 05:05:07

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-08-25

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):C07F7/08 申请公布日:20180420 申请日:20171130

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2018-05-15

    实质审查的生效 IPC(主分类):C07F7/08 申请日:20171130

    实质审查的生效

  • 2018-04-20

    公开

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