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用于制造光学反射器和有机存储器的包含硼(III)部分的溶液可处理给体‑受体化合物及其制备

摘要

本发明公开用于制造光学反射器和有机存储器的溶液可处理材料,该材料具有包括硼(III)部分作为电子受体单元的给体‑受体系统。更具体地讲,本文描述利用具有由以下通式(I)表示的化学结构的包含硼(III)的给体‑受体化合物作为活性材料制造光学反射器和有机存储器,其中B为硼原子;各硼原子可任选结合X

著录项

  • 公开/公告号CN107850704A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-03-27

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 香港大学;

    申请/专利号CN201680042935.3

  • 发明设计人 任咏华;潘俊廷;吴翟;

    申请日2016-05-18

  • 分类号

  • 代理机构中国专利代理(香港)有限公司;

  • 代理人麦振声

  • 地址 中国香港薄扶林道

  • 入库时间 2023-06-19 04:55:20

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-04-20

    实质审查的生效 IPC(主分类):G02B5/08 申请日:20160518

    实质审查的生效

  • 2018-03-27

    公开

    公开

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