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一种非均匀媒质中特定光分布的光源计算方法

摘要

本发明涉及一种非均匀媒质中特定光分布的光源计算方法:(1)已知非均匀媒质中的光学参数分布和非均匀媒质中想要得到的光强的分布情况;(2)根据光学参数的分布对非均匀媒质进行分区域;(3)将DMD的光源阵列进行分区;(4)利用GPU加速的蒙特卡洛模拟MCX进行正向计算,即设与光源阵列分区对应的非均匀媒质表面光源区域的入射光均为均匀面光源,MCX计算非均匀媒质中光流率的归一化分布A;(5)列线性方程组,并求线性方程组的最小二乘解,得到媒质表面各光源区域应投射的光强大小;(6)由距离平方反比定律求得光源阵列各区域出射的光强分布,实现对目标非均匀媒质区域的定量精准投光。

著录项

  • 公开/公告号CN107844457A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-03-27

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 天津大学;

    申请/专利号CN201710591627.2

  • 发明设计人 赵会娟;闫盼盼;赵宽心;高峰;

    申请日2017-07-19

  • 分类号G06F17/12(20060101);G06F17/50(20060101);

  • 代理机构12201 天津市北洋有限责任专利代理事务所;

  • 代理人程毓英

  • 地址 300072 天津市南开区卫津路92号

  • 入库时间 2023-06-19 04:51:06

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-04-20

    实质审查的生效 IPC(主分类):G06F17/12 申请日:20170719

    实质审查的生效

  • 2018-03-27

    公开

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