首页> 中国专利> 两级台面铟镓砷/铟磷雪崩光电二极管及其制备方法

两级台面铟镓砷/铟磷雪崩光电二极管及其制备方法

摘要

本发明属于光电检测以及图像传感器领域,为实现在保证器件中心区域高电场的同时,抑制边缘电场,降低器件暗电流,为产业应用提供参考依据。本发明,两级台面铟镓砷/铟磷雪崩光电二极管及其制备方法,结构包括N+‑InP衬底、N‑InP缓冲层、N‑‑铟镓砷In0.53Ga0.47As吸收层、N‑铟镓砷磷In(1‑x)GaxAsyP(1‑y)组分渐变层、N‑InP电荷层、i‑InP倍增层、P‑InP电场缓冲层以及P+‑InP接触层;其中,P‑InP电场缓冲层经刻蚀形成了浅台面,N‑InP缓冲层经刻蚀形成了深台面,光生载流子在倍增层内不断碰撞电离,引发雪崩倍增。本发明主要应用于光电检测、光电传感器设计场合。

著录项

  • 公开/公告号CN107768462A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-03-06

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 天津大学;

    申请/专利号CN201711064990.5

  • 发明设计人 谢生;朱帅宇;毛陆虹;

    申请日2017-11-02

  • 分类号H01L31/0352(20060101);H01L31/107(20060101);H01L31/18(20060101);

  • 代理机构12201 天津市北洋有限责任专利代理事务所;

  • 代理人刘国威

  • 地址 300072 天津市南开区卫津路92号

  • 入库时间 2023-06-19 04:42:50

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-10-18

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):H01L31/0352 申请公布日:20180306 申请日:20171102

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2018-03-30

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L31/0352 申请日:20171102

    实质审查的生效

  • 2018-03-06

    公开

    公开

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