以激光冲击功形成注入力实现连续激光冲击熔注微细颗粒的方法

摘要

本发明提供了一种以激光冲击功形成注入力实现连续激光冲击熔注微细颗粒的方法，其特征是采用连续激光束透过约束层扫描预置在待改性材料表面的由具有诱发激光冲击波效应的粘结剂和待熔注微细颗粒混合组成的复合预置层，通过合理匹配粘结剂、待改性材料和待熔注微细颗粒的熔点和沸点等参数，实现了在连续激光作用诱导下粘结剂气化形成激光冲击波将待熔注微细颗粒注入待改性材料表面熔池中，从而原位形成微细颗粒增强的复合材料层。采用本发明方法在待改性材料表面所获得复合材料层中微细颗粒与待改性材料实现了冶金结合，打破了现有技术难以熔注微细颗粒的技术壁垒；同时，其注入深度较深、组织细小、增强颗粒分布均匀且不受待改性材料塑性限制。

说明书

技术领域

本发明属于激光表面处理技术领域，涉及一种激光熔注增强颗粒方法，具体地说是一种以激光冲击功形成注入力实现连续激光冲击熔注微细颗粒的方法。

背景技术

激光熔注颗粒增强技术，是一种先进的激光表面处理技术。其基本原理是：激光熔注过程中，高功率密度的激光束在金属表面形成熔池，同时将增强颗粒直接注入到熔池中，在熔池快速冷却过程中，注入颗粒来不及熔化而被“冻结”，从而在金属表面原位形成颗粒增强的金属基复合材料层。激光熔注过程与送粉式激光熔覆在工艺上极为相似，两者之间最大的区别在于加热对象不同，激光熔覆的主要加热对象是涂层粉末，而激光熔注的主要加热对象是基体表面。由于将增强颗粒直接注入到基体表面产生的熔池中，激光熔注制备的复合材料层与基体之间化学成分呈平缓梯度过渡，解决了激光熔覆由于熔覆层与基体之间化学成分存在较大梯度而导致熔覆层始终存在结合强度较差等问题。然而，粒径小于10μm的微细粉体极易团聚，当微细粉体发生团聚后使得其很多优异的改性特性消失，同时受微细粉体流动性较差导致粉体难以输送的限制，目前激光熔注颗粒增强技术仅限于熔注粒径较大的颗粒，其粒径范围一般为70-150μm。

众所周知，若增强颗粒为微细颗粒时，其不仅具有第二相强化、弥散强化等常规意义上的颗粒增强效果，而且还会引入细晶强化以及微细颗粒所具有的小尺寸效应等，故以微细颗粒作为增强颗粒的激光表面处理技术的研究一直是一个热点研究问题。例如，清华大学钟敏霖等提出了一种轻合金表面激光冲击微纳米颗粒注入强化方法(公开号为CN101736214A)，其利用高能短脉冲激光作用在吸收层如黑漆上形成高压冲击波，进而将预置在轻合金表面的微纳米颗粒注入材料表面，这里的颗粒注入其实质是颗粒植入，属于一种非熔化颗粒增强方法；这一方法存在着植入材料表面的颗粒覆盖率较小、注入深度较浅且所植入的颗粒与基体间的结合是一种机械结合，极易从表层脱落等不足，而且其主要适应于塑性较好的轻合金材料。再如，崔承云等公开了一种激光热力复合诱导纳米颗粒增强复合薄膜的制备方法，其技术方案的核心要点是：首先利用激光辐照浸涂有纳米陶瓷颗粒的金属基体表面至熔化状态使纳米陶瓷颗粒以半嵌入状态存在于基体表面，然后再通过纳秒脉冲激光诱导冲击波进行激光冲击从而使纳米颗粒完全嵌入表面(公开号为CN103103523A)；这一方法中结合了激光的热力两方面作用使得适于改性的材料不再局限于轻合金，然而其所嵌入基体表面的纳米陶瓷颗粒仍以机械结合的方式存在，同时从其名称就可以看出其改性层深度很浅。可见，目前尚未有一种激光熔注微细颗粒的方法可供使用，极大地制约了微细颗粒这一具有优良改性特点的增强材料在激光熔注颗粒增强技术领域中的应用。

发明内容

针对现有激光熔注颗粒增强技术难以实现微细颗粒熔注，进而制约了微细颗粒这一具有优良改性特点的增强材料在激光熔注颗粒增强技术领域中应用的问题，本发明提供了一种以激光冲击功形成注入力实现连续激光冲击熔注微细颗粒的方法。

本发明的技术方案是：

一种以激光冲击功形成注入力实现连续激光冲击熔注微细颗粒的方法，其特征在于：

首先，在待改性材料表面预置由具有诱发激光冲击波效应的粘结剂和待熔注微细颗粒混合组成的复合预置层；所述复合预置层中粘结剂、待熔注微细颗粒及待改性材料三者满足以下条件：粘结剂的熔点<待改性材料的熔点<待熔注微细颗粒的熔点，且粘结剂的沸点不大于待改性材料的熔点；

然后，采用连续激光束透过约束层扫描预置在待改性材料表面的复合预置层，当激光束透过约束层扫描复合预置层时，复合预置层中的粘结剂先熔化，此时激光束作用区域待改性材料表面和待熔注微细颗粒温度升高，接着复合预置层中的粘结剂气化，随后激光束作用区域的待改性材料表面形成熔池，与此同时气化后的粘结剂在激光诱导作用下形成等离子体，等离子体吸收激光能量后爆炸形成激光冲击波，在激光冲击波的作用下仍保持固态的待熔注微细颗粒被注入待改性材料表面熔池中，从而在待改性材料表面原位形成微细颗粒增强的复合材料层。

进一步地，所述具有诱发激光冲击波效应的粘结剂是无机粘结剂或有机粘结剂；所述待熔注微细颗粒的粒径小于10μm。

进一步地，待熔注微细颗粒的粒径100nm-5μm。

进一步地，所述连续激光束发生器为光纤激光器、固体激光器、CO₂气体激光器中的一种；所述约束层为石英玻璃、K9玻璃或经镀膜处理后的石英玻璃。

进一步地，待改性材料为金属材料，粘结剂为无机盐类粘结剂。

进一步地，所述连续激光束在熔注微细颗粒的过程中，其焦点位置应处于复合预置层中或位于复合预置层与待改性材料交界面上。

进一步地，所述复合预置层的制备方法包括如下步骤：首先，将粘结剂溶解或混合在水和乙醇的混合溶液中；然后，加入待熔注微细颗粒并将其制成分散均匀的微细颗粒浆料；接着，将制备成的微细颗粒浆料涂覆在待改性材料表面上；最后，将已涂覆微细颗粒浆料的待改性材料进行烘干处理。

进一步地，所制备预置层厚度小于1mm。

进一步地，所制备预置层厚度为0.3mm-0.7mm。

本发明的有益效果：

本发明所述方法将激光熔注、激光熔覆和激光冲击三种激光先进制造技术有机融合在一起，通过合理匹配粘结剂、待改性材料和待熔注微细颗粒的熔点和沸点等热物性参数，以激光冲击功形成注入力实现了激光熔注微细颗粒，打破了现有技术难以熔注微细颗粒的技术壁垒。

本发明所述方法微细颗粒注入力的阈值仅为待改性材料熔池表面张力，不仅使得采用连续激光诱发的冲击功即可实现微细颗粒的注入，而且微细颗粒的注入深度较深，且采用合适的激光工艺参数下注入的微细颗粒在待改性材料表面所获得复合材料层中分布均匀。

采用本发明所述方法在待改性材料表面所获得复合材料层中的微细颗粒与待改性材料实现了冶金结合，较好地避免了目前激光冲击注入微细颗粒或植入微细颗粒以机械结合方式存在所导致微细颗粒容易脱落、诱发微裂纹造成应力集中等问题。

本发明所述方法对待改性材料适应性强，突破了目前激光冲击注入或植入微细颗粒主要适应于塑性好的轻合金材料的局限性，其不仅适合于塑性好的轻合金材料，也适合于硬度较高的钢铁材料，还可以对硬脆涂层实现表面改性进而原位制备复合多功能表面。

附图说明

图1是本发明所述连续激光冲击熔注微细颗粒的方法的基本原理示意图。

图2是本发明实施例所述激光冲击熔注改性后铝硅涂层横截面低倍SEM形貌图。

图3是本发明对比例所述激光表面改性后铝硅涂层横截面低倍SEM形貌图。

图4是本发明实施例所述铝硅涂层激光冲击熔注改性层高倍SEM形貌图。

图5是本发明对比例所述铝硅涂层激光表面重熔改性层高倍SEM形貌图。

图6是本发明实施例所述铝硅涂层激光冲击熔注改性层中晶界上颗粒物的EDS能谱。

图7是本发明对比例所述铝硅涂层激光表面重熔改性层中晶界上颗粒物的EDS能谱。

图中：

1-激光头，2-激光束，3-约束层，4-复合预置层，5-待改性材料，6-粘结剂，7-待熔注微细颗粒。

具体实施方式

下面结合附图以及具体实施例对本发明作进一步的说明，但本发明的保护范围并不限于此。

如图1所示，本发明所述的以激光冲击功形成注入力实现连续激光冲击熔注微细颗粒的方法，采用连续激光束透过约束层扫描预置在待改性材料表面且由具有诱发激光冲击波效应的粘结剂和待熔注微细颗粒混合组成的复合预置层。所述复合预置层中粘结剂和待熔注微细颗粒及待改性材料三者满足以下两个条件：一个条件是粘结剂的熔点最低、待改性材料的熔点次之、待熔注微细颗粒的熔点最高，另一个条件是粘结剂的沸点不大于待改性材料的熔点。

当激光束透过约束层扫描复合预置层时，复合预置层中的粘结剂先熔化，此时激光束作用区域待改性材料表面和待熔注微细颗粒温度升高，接着复合预置层中的粘结剂气化，随后激光束作用区域的待改性材料表面形成熔池，与此同时气化后的粘结剂在激光诱导作用下形成等离子体，等离子体吸收激光能量后爆炸形成激光冲击波，在激光冲击波的作用下仍保持固态的待熔注微细颗粒被注入待改性材料表面熔池中，从而在待改性材料表面原位形成微细颗粒增强的复合材料层。

所述具有诱发激光冲击波效应的粘结剂，既可以选用无机粘结剂也可以选用有机粘结剂，当待改性材料为金属材料时，粘结剂最好选用具有诱发激光冲击波效应的无机盐类粘结剂。

所述待熔注微细颗粒的粒径小于10μm，且其粒径的最佳范围为100nm-5μm。所述约束层为石英玻璃或K9玻璃，最好采用经镀膜处理后的石英玻璃以保证激光透过率。所述连续激光束发生器为光纤激光器、固体激光器或CO₂气体激光器。在熔注微细颗粒的过程中，连续激光束的焦点位置应处于复合预置层中，且最好位于复合预置层与待改性材料交界面上。

所述复合预置层的制备方法包括如下步骤：首先，将粘结剂溶解或混合在水和乙醇的混合溶液中；然后，加入待熔注微细颗粒并将其制成微细颗粒浆料；最好为分散均匀的微细颗粒悬浮液。接着，将制备成的微细颗粒浆料涂覆在待改性材料表面上；最后，将已涂覆微细颗粒浆料的待改性材料进行烘干处理即可。所制备预置层厚度小于1mm，且其厚度的最佳范围为0.3mm-0.7mm。

实施例：

待改性材料为镍基高温合金表面铝硅涂层(其熔点约为1420℃)，粘结剂为氯化钠(其熔点为891℃、沸点为1413℃)，待熔注微细颗粒为平均粒径为1μm的氧化铈(其熔点为2397℃，当颗粒粒径超过100nm时其熔点基本不随粒径减小而降低)，复合预置层厚度为0.5mm；熔注过程中采用光纤激光器，激光工艺参数为450W的功率、扫描速度为1250mm/min，光斑直径为0.8mm、零离焦；在复合预置层上覆盖约束层经镀膜处理后的石英玻璃的约束层。

对比例：除复合预置层上没有约束层外，其他条件均与实施例相同。

图2、图3分别为实施例与对比例的产物的铝硅涂层横截面低倍SEM形貌图，实施例在在铝硅涂层表面形成144μm厚的微细氧化铈颗粒增强复合材料层，对比例在铝硅涂层表面形成217μm厚的激光表面改性层。实施例中待改性材料表面的熔深相对较浅。并且，实施例所得微细氧化铈颗粒增强复合材料层的表面呈现下凹浅弧状特征，在连续激光束作用下已呈现出激光冲击效应。在实施例中由于约束层的存在，激光能量一部分转化为冲击功；而对比例中，因没有约束层，激光能量主要用于形成熔池，因此实施例获得的微细氧化铈颗粒增强复合材料层厚度相对较小。

图4、图5分别为实施例与对比例的产物的铝硅涂层横截面的高倍SEM形貌图，实施例所得微细氧化铈颗粒增强复合材料层微观组织为均匀的等轴晶，在其晶界上明显可见众多的颗粒物；对比例在铝硅涂层表面形成的激光表面改性层的微观组织为典型的树枝晶，其晶界上颗粒物很少。

图6、图7分别为实施例与对比例的产物的改性层中晶界上颗粒物的EDS能谱，实施例所得微细氧化铈颗粒增强复合材料层中含有大量的Cr、Si、Ce，可见这些颗粒物为铬硅化合物和氧化铈的混合物，此时Ce的质量分数高达8.03％。对比例在铝硅涂层表面形成的激光表面改性层中仅含有极少量的Ce，可见其晶界上的颗粒物仅为铬硅化合物，即微细氧化铈并未有效注入待改性材料表面。

所述实施例为本发明的优选的实施方式，但本发明并不限于上述实施方式，在不背离本发明的实质内容的情况下，本领域技术人员能够做出的任何显而易见的改进、替换或变型均属于本发明的保护范围。