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测量高度校正规则生成装置及方法、高度测量装置及方法

摘要

本发明涉及一种测量高度校正规则生成装置及方法、高度测量装置及方法。根据本发明的测量高度校正规则生成方法包括如下步骤:获取包含样品上的一个以上的位置的距基准面的高度的第一数据;生成包含基于第一位置的高度和基准高度之间的相对关系来确定的针对第一位置的高度的比例因子的第一掩码;生成包含基于第一位置的高度和与第一位置相邻的一个以上的第二位置的高度之间的相对关系来确定的针对第一位置的高度的第一校正规则的第二掩码;计算出第一位置的高度和与第一位置处于预设关系的第三位置的高度之比,并生成包含基于计算出的比率和平均比率之间的相对关系来确定的针对所述第一位置的高度的第二校正规则的第三掩码。

著录项

  • 公开/公告号CN107588747A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-01-16

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 韩华泰科株式会社;

    申请/专利号CN201710075742.4

  • 申请日2017-02-13

  • 分类号G01B21/02(20060101);

  • 代理机构11286 北京铭硕知识产权代理有限公司;

  • 代理人孙昌浩;李盛泉

  • 地址 韩国庆尚南道昌原市

  • 入库时间 2023-06-19 04:17:49

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-06-14

    实质审查的生效 IPC(主分类):G01B21/02 申请日:20170213

    实质审查的生效

  • 2019-05-03

    著录事项变更 IPC(主分类):G01B21/02 变更前: 变更后: 申请日:20170213

    著录事项变更

  • 2019-05-03

    专利申请权的转移 IPC(主分类):G01B21/02 登记生效日:20190412 变更前: 变更后: 申请日:20170213

    专利申请权、专利权的转移

  • 2018-01-16

    公开

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