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用于补偿光学镜片制造过程中的偏差的系统和方法

摘要

本发明披露了一种用于补偿光学镜片制造过程中的偏差的系统和方法,其中,用户向所述实验室管理系统(LMS 101)提供镜片处方,所述镜片设计系统(LDS 103)计算基于其制造镜片的制造参数,并且分析器被配置成用于基于光学处方标称值以及在从镜片表面处理设备输出的一个或多个镜片上测得的参数来计算一个或多个经表面处理的光学镜片的偏差,所述分析器进一步被配置成用于基于所述偏差来计算用于一个或多个未来光学镜片制造轮次的补偿因子。所述系统使用统计学分析来确定可以向给定产品、半成品、材料、或镜片设计应用的补偿因子,以提高实验室合格率。通过使用监测与配置系统,用户跟踪所述实验室的性能的演变并且标识影响合格率的方面。用户例如通过限定如何计算和应用所述补偿因子来限定计算系统如何优化所述实验室的性能。

著录项

  • 公开/公告号CN107567382A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-01-09

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 埃西勒国际通用光学公司;

    申请/专利号CN201580079392.8

  • 发明设计人 S·皮罗伯;B·J·格尔博;

    申请日2015-05-29

  • 分类号

  • 代理机构中国国际贸易促进委员会专利商标事务所;

  • 代理人杜文树

  • 地址 法国沙朗通勒蓬

  • 入库时间 2023-06-19 04:15:03

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-06-16

    授权

    授权

  • 2018-03-09

    专利申请权的转移 IPC(主分类):B29D11/00 登记生效日:20180222 变更前: 变更后: 申请日:20150529

    专利申请权、专利权的转移

  • 2018-02-02

    实质审查的生效 IPC(主分类):B29D11/00 申请日:20150529

    实质审查的生效

  • 2018-01-09

    公开

    公开

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