公开/公告号CN107567382A
专利类型发明专利
公开/公告日2018-01-09
原文格式PDF
申请/专利权人 埃西勒国际通用光学公司;
申请/专利号CN201580079392.8
申请日2015-05-29
分类号
代理机构中国国际贸易促进委员会专利商标事务所;
代理人杜文树
地址 法国沙朗通勒蓬
入库时间 2023-06-19 04:15:03
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2020-06-16
授权
授权
2018-03-09
专利申请权的转移 IPC(主分类):B29D11/00 登记生效日:20180222 变更前: 变更后: 申请日:20150529
专利申请权、专利权的转移
2018-02-02
实质审查的生效 IPC(主分类):B29D11/00 申请日:20150529
实质审查的生效
2018-01-09
公开
公开
机译: 用于补偿光学透镜制造过程中的偏差的系统和方法
机译: 用于制造印刷电路板组件的支撑的方法,涉及在基于预定程序执行的施加过程中,通过在基板上施加其他粘性介质来补偿与预设图案的偏差
机译: 用于在光学设备组装过程中无需调整位置或角度以补偿偏移或偏差的情况下,通过精确的光学调整即可装配到光学设备的收集器及其制造方法