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一种半绝缘GaN薄膜及其制备方法

摘要

本发明提供了一种半绝缘GaN薄膜及其制备方法,其中,在该半绝缘GaN薄膜中从下至上依次包括衬底、缓冲层、GaN模板层以及GaN薄膜层,其中,所述GaN薄膜层为掺杂有碳和铁的半绝缘GaN薄膜层。该半绝缘GaN薄膜品质高、纯度高,杂质的记忆效应小,绝缘性能好,能有效的减少器件的漏电流。

著录项

  • 公开/公告号CN107546260A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-01-05

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 江西省昌大光电科技有限公司;

    申请/专利号CN201610496530.9

  • 发明设计人 陈振;

    申请日2016-06-29

  • 分类号H01L29/20(20060101);H01L29/207(20060101);H01L21/02(20060101);C30B25/02(20060101);C30B29/40(20060101);

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 330096 江西省南昌市高新区艾溪北路699号

  • 入库时间 2023-06-19 04:09:28

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-10-26

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L29/20 申请日:20160629

    实质审查的生效

  • 2018-01-05

    公开

    公开

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