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一种用于热反射玻璃行业旋转硅银靶材及其制备方法

摘要

本发明涉及一种用于热反射玻璃行业旋转硅银靶材,属于材料技术领域。其包括硅20‑50份,银25‑55份,铪0.1‑3份,钪0.1‑2份,铝1‑5份,钒2‑7份,镍0.2‑7份,铬0.1‑1份,钴0.1‑2份,氮0.3‑1份,硫0.003‑0.01份。通过铝锭和三硫化二铝的熔化、制粉,银、镍、钒、V32N26、钪、铪、钴和铬的熔化、制粉,之后和将前述所得粉末与硅粉混合,最后等离子喷涂成靶材。本发明的靶材用真空磁控溅射方法制成的薄膜,致密性好,寿命更久,红外线反射率高,可见光透过率和反射率低。

著录项

  • 公开/公告号CN107502867A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2017-12-22

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 江阴恩特莱特镀膜科技有限公司;

    申请/专利号CN201710724582.1

  • 发明设计人 秦国强;常金永;张志祥;

    申请日2017-08-22

  • 分类号C23C14/34(20060101);C23C14/35(20060101);C23C14/18(20060101);C22C5/06(20060101);C22C30/00(20060101);C23C4/06(20160101);C23C4/134(20160101);

  • 代理机构32104 无锡市大为专利商标事务所(普通合伙);

  • 代理人殷红梅;张仕婷

  • 地址 214437 江苏省无锡市江阴市金山路201号创智产业园能量岛B座1楼

  • 入库时间 2023-06-19 04:06:43

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-05-28

    授权

    授权

  • 2018-01-16

    实质审查的生效 IPC(主分类):C23C14/34 申请日:20170822

    实质审查的生效

  • 2017-12-22

    公开

    公开

说明书

技术领域

本发明涉及一种用于热反射玻璃行业旋转硅银靶材及其制备方法,属于材料技术领域。

背景技术

热反射热反射玻璃一般是在玻璃表面镀一层或多层诸如铬、钛或不锈钢等金属或其化合物组成的薄膜,用其制作成的玻璃幕墙在现代建筑中应用的非常普遍,具有节能及调节室内光线的作用,并且使建筑具有现代的美感。其具有以下功能:1、反射和吸收可见光的功能,室内不受强光照射,视觉柔和;2、对红外线有较高的反射率,具有很好的节能性能;3、对紫外线有较高的吸收率,保护室内人员和物品免受紫外线的伤害。但是,由于其对可见光的反射率最高达82%-90%,给城市带来了严重的光污染。玻璃幕墙反射带来噪光,使人产生眩晕甚至影响身体健康,还会影响司机视线,造成交通事故。

发明内容

本发明专利的目的是克服现有技术中存在的不足,提供一种用于热反射玻璃行业旋转硅银靶材及其制作方法,其用真空磁控溅射方法制成的薄膜,致密性好,寿命更久,红外线反射率高,可见光透过率和反射率低。

按照本发明提供的技术方案,一种用于热反射玻璃行业旋转硅银靶材,配方比例按重量份计:硅20-50份,银25-55份,铪0.1-3份,钪0.1-2份,铝1-5份,钒2-7份,镍0.2-7份,铬0.1-1份,钴0.1-2份,氮0.3-1份,硫0.003-0.01份。

所述旋转硅银靶材密度4.95-7.11g/cm3,电阻率0.07-15>

所述用于热反射玻璃行业旋转硅银靶材,配方比例按重量份计:硅20-25份,银52-55份,铪2.7-2.9份,钪1.6-1.9份,铝3.1-4.3份,钒6.7-7.0份,镍6-7份,铬0.5-0.8份,钴1.3-1.7份,氮0.8-1份,硫0.003-0.008份。

所述旋转硅银靶材密度6.96-7.11g/cm3,电阻率0.07-0.09>

所述用于热反射玻璃行业旋转硅银靶材,配方比例按重量份计:硅30-34份,银45-49份,铪1.5-2.0份,钪1.8-2.0份,铝3.8-4.1份,钒2.8-6.3份,镍5-6份,铬0.3-0.4份,钴0.1-0.3份,氮0.6-0.7份,硫0.005-0.007份。

所述旋转硅银靶材密度6.35-6.66g/cm3,电阻率0.26-0.63>

所述用于热反射玻璃行业旋转硅银靶材,配方比例按重量份计:硅38-42份,银37-41份,铪1.2-2.4份,钪1.7-1.9份,铝4.3-4.5份,钒2.6-5.6份,镍3.1-3.3份,铬0.5-0.7份,钴1.0-1.7份,氮0.6-0.7份,硫0.005-0.009份。

所述旋转硅银靶材密度5.76-6.06g/cm3,电阻率1.65-3.53>

所述用于热反射玻璃行业旋转硅银靶材,配方比例按重量份计:硅46-50份,银25-34份,铪2.5-2.8份,钪0.7-0.9份,铝4.6-4.8份,钒2.0-4.9份,镍4.3-4.5份,铬0.8-0.9份,钴1.1-1.0份,氮0.3-0.4份,硫0.003-0.007份。

所述旋转硅银靶材密度4.95-5.37g/cm3,电阻率8.81->

所述用于热反射玻璃行业旋转硅银靶材,配方比例按重量份计:硅30-42份,银37-49份,铪1.2-2.4份,钪1.7-2.0份,铝3.8-4.5份,钒2.6-6.3份,镍3.1-6份,铬0.3-0.7份,钴0.1-7.7份,氮0.6-0.7份,硫0.005-0.009份。

所述用于热反射玻璃行业旋转硅银靶材,配方比例按重量份计:硅38-42份,银37-41份,铪1.2-2.4份,钪1.7-1.9份,铝4.3-4.5份,钒2.6-5.6份,镍3.1-3.3份,铬0.5-0.7份,钴1.0-1.7份,氮0.6-0.7份,硫0.005-0.009份。

所述一用于热反射玻璃行业旋转硅银靶材,配方比例按重量份计:硅42份,银38份,铪2.1份,钪1.9份,铝4.3份,钒5.6份,镍3.2份,铬0.6份,钴1.6份,氮0.7份,硫0.008份。

用于热反射玻璃行业旋转硅银靶材的制备方法,按重量份计步骤如下:

(1)铝锭和三硫化二铝熔化、制粉:向真空雾化制粉设备的熔炼炉中放入称量好的铝锭1-5份,用40-60kw的功率将铝锭熔化得到铝熔液,保温温度控制为850-900℃,保温时间为10min;之后向熔液中加入0.0047-0.016份三硫化二铝粉末,以15-30kW的功率熔炼30min;之后气雾化成100-150目的粉末;

(2)银、镍、钒、V32N26、钪、铪、钴和铬的熔化、制粉:将称量好的银块25-55份放入真空雾化制粉设备的熔炼炉中,用50-70kw的功率将银熔化得到熔液,将温度控制在1255-1265℃;之后向熔液中加入铬0.1-1份,以15-30kW的功率熔炼6-10分钟;之后向熔液中加入钪0.1-2份,以40-60kW的功率熔炼14-16分钟,温度升至1500-1600℃;之后向熔液中加入镍块0.2-7份、铪块0.1-3份、钴块0.1-2份和0.68-5.68份海绵钒,以50-70kw的功率熔炼,将温度升至1700-1750℃,精炼8-12分钟;之后向熔液中加入1.62-5.4份V32N26粉末,以25-50kw的功率精炼28-32分钟;之后气雾化成120-180目的粉末;

(3)混粉:将上述所得粉末按比例与80-150目的20-50份的硅粉混合;取出所得粉末,放入烘箱,以45-55℃烘烤10-14小时,待用;

(4)制成旋转硅银靶材:将前述所得混合粉末用等离子喷涂的工艺喷涂在不锈钢衬管上,得到旋转硅银靶材。

本发明的有益效果:本发明的硅银靶材,其用真空磁控溅射方法制成的薄膜,致密性好,寿命更久,红外线反射率高;由于其含有氮和硫的成份,和金属元素结合,在膜层中产生数量众多的细微的颗粒,对可见光有较高的吸收率,从而可见光透过率和反射率低。

具体实施方式

实施例1

合金比例:硅20份,银55份,铪2.9份,钪1.6份,铝4.3份,钒6.7份,镍6.6份,铬0.6份,钴1.3份,氮1.0份,硫0.004份。

所述硅银靶材的制备方法,步骤为:

(1)铝锭和三硫化二铝熔化、制粉:向真空雾化制粉设备的熔炼炉中放入称量好的铝锭4.3份,用40kw的功率将铝锭熔化得到铝熔液,保温温度控制为860℃,保温时间为10min;之后向熔液中加入0.0063份三硫化二铝粉末,以15kw的功率熔炼30min;之后气雾化成100-150目的粉末;

(2)银、镍、钒、V32N26、钪、铪、钴和铬的熔化、制粉:将称量好的银块55份放入真空雾化制粉设备的熔炼炉中,用70kw的功率将银熔化得到熔液,将温度控制在1260℃;之后向熔液中加入铬0.6份,以18kw的功率熔炼8分钟;之后向熔液中加入钪1.6份,以50kw的功率熔炼15分钟,温度升至1580℃;之后向熔液中加入镍块6.6份、铪块2.9份、钴块1.3份和2.3份海绵钒,以70kw的功率熔炼,将温度升至1700℃,精炼10分钟;之后向熔液中加入5.4份V32N26粉末,以40kw的功率精炼30min;之后气雾化成120-180目的粉末;

(3)混粉:将上述所得粉末按与20份80-150目的硅粉混合,用V型混料机混合2小时;取出所得粉末,放入烘箱,以50℃烘烤12小时,待用;

(4)制成旋转硅银靶材:将前述所得混合粉末用等离子喷涂的工艺喷涂在不锈钢衬管上,得到旋转硅银靶材。

所述旋转硅银靶材密度7.09g/cm3,电阻率0.07mΩ·cm,导热率193W/(m·K)。对应的热反射膜红外线反射率82%,可见光透过率45%,可见光反射率11%。

实施例2

合金比例:硅25份,银52份,铪2.7份,钪1.6份,铝3.3份,钒6.7份,镍6.0份,铬0.6份,钴1.3份,氮0.8份,硫0.006份。

所述硅银靶材的制备方法,步骤为:

(1)铝锭和三硫化二铝熔化、制粉:向真空雾化制粉设备的熔炼炉中放入称量好的铝锭3.3份,用40kw的功率将铝锭熔化得到铝熔液,保温温度控制为870℃,保温时间为10min;之后向熔液中加入0.0094份三硫化二铝粉末,以18kw的功率熔炼30min;之后气雾化成100-150目的粉末;

(2)银、镍、钒、V32N26、钪、铪、钴和铬的熔化、制粉:将称量好的银块52份放入真空雾化制粉设备的熔炼炉中,用65kw的功率将银熔化得到熔液,将温度控制在1260℃;之后向熔液中加入铬0.6份,以20kw的功率熔炼8分钟;之后向熔液中加入钪1.6份,以50kw的功率熔炼15分钟,温度升至1550℃;之后向熔液中加入镍块6.0份、铪块2.7份、钴块1.3份和3.18份海绵钒,以70kw的功率熔炼,将温度升至1750℃,精炼10分钟;之后向熔液中加入4.32份V32N26粉末,以43kw的功率精炼30min;之后气雾化成120-180目的粉末;

(3)混粉:将上述所得粉末按比例与25份80-150目的硅粉混合,用V型混料机混合2小时;取出所得粉末,放入烘箱,以50℃烘烤12小时,待用;

(4)制成旋转硅银靶材:将前述所得混合粉末用等离子喷涂的工艺喷涂在不锈钢衬管上,得到旋转硅银靶材。

所述旋转硅银靶材密度6.98g/cm3,电阻率0.09>

实施例3

合金比例:硅30份,银49份,铪2.0份,钪1.8份,铝3.8份,钒6.3份,镍5.8份,铬0.3份,钴0.3份,氮0.7份,硫0.005份。

所述硅银靶材的制备方法,步骤为:

(1)铝锭和三硫化二铝熔化、制粉:向真空雾化制粉设备的熔炼炉中放入称量好的铝锭3.8份,用50kw的功率将铝锭熔化得到铝熔液,保温温度控制为850℃,保温时间为10min;之后向熔液中加入0.0078份三硫化二铝粉末,以25kw的功率熔炼30min;之后气雾化成100-150目的粉末;

(2)银、镍、钒、V32N26、钪、铪、钴和铬的熔化、制粉:将称量好的银块49份放入真空雾化制粉设备的熔炼炉中,用65kw的功率将银熔化得到熔液,将温度控制在1260℃;之后向熔液中加入铬0.3份,以15kw的功率熔炼8分钟;之后向熔液中加入钪1.8份,以40kw的功率熔炼15分钟,温度升至1520℃;之后向熔液中加入镍块5.8份、铪块2.0份、钴块0.3份和2.62份海绵钒,以70kw的功率熔炼,将温度升至1730℃,精炼10分钟;之后向熔液中加入3.78份V32N26粉末,以40kw的功率精炼30min;之后气雾化成120-180目的粉末;

(3)混粉:将上述所得粉末按比例与30份80-150目的硅粉混合,用V型混料机混合2小时;取出所得粉末,放入烘箱,以50℃烘烤12小时,待用;

(4)制成旋转硅银靶材:将前述所得混合粉末用等离子喷涂的工艺喷涂在不锈钢衬管上,得到旋转硅银靶材。

所述旋转硅银靶材密度6.65g/cm3,电阻率0.27>

实施例4

合金比例:硅34份,银45份,铪2.0份,钪2.0份,铝3.9份,钒6.0份,镍6.0份,铬0.4份,钴0.1份,氮0.6份,硫0.007份。

所述硅银靶材的制备方法,步骤为:

(1)铝锭和三硫化二铝熔化、制粉:向真空雾化制粉设备的熔炼炉中放入称量好的铝锭3.9份,用55kw的功率将铝锭熔化得到铝熔液,保温温度控制为870℃,保温时间为10min;之后向熔液中加入0.0109份三硫化二铝粉末,以25kw的功率熔炼30min;之后气雾化成100-150目的粉末;

(2)银、镍、钒、V32N26、钪、铪、钴和铬的熔化、制粉:将称量好的银块45份放入真空雾化制粉设备的熔炼炉中,用60kw的功率将银熔化得到熔液,将温度控制在1260℃;之后向熔液中加入铬0.4份,以15kw的功率熔炼8分钟;之后向熔液中加入钪2.0份,以45kw的功率熔炼15分钟,温度升至1570℃;之后向熔液中加入镍块6.0份、铪块2.0份、钴块0.1份和3.36份海绵钒,以70kw的功率熔炼,将温度升至1720℃,精炼10分钟;之后向熔液中加入3.24份V32N26粉末,以40kw的功率精炼30min;之后气雾化成120-180目的粉末;

(3)混粉:将上述所得粉末按比例与34份80-150目的硅粉混合,用V型混料机混合2小时;取出所得粉末,放入烘箱,以50℃烘烤12小时,待用;

(4)制成旋转硅银靶材:将前述所得混合粉末用等离子喷涂的工艺喷涂在不锈钢衬管上,得到旋转硅银靶材。

所述旋转硅银靶材密度6.37g/cm3,电阻率0.61>

实施例5

合金比例:硅39份,银41份,铪2.3份,钪1.9份,铝4.5份,钒5.0份,镍3.3份,铬0.7份,钴1.7份,氮0.6份,硫0.009份。

所述硅银靶材的制备方法,步骤为:

(1)铝锭和三硫化二铝熔化、制粉:向真空雾化制粉设备的熔炼炉中放入称量好的铝锭4.5份,用40kw的功率将铝锭熔化得到铝熔液,保温温度控制为890℃,保温时间为10min;之后向熔液中加入0.014份三硫化二铝粉末,以20kw的功率熔炼30min;之后气雾化成100-150目的粉末;

(2)银、镍、钒、V32N26、钪、铪、钴和铬的熔化、制粉:将称量好的银块41份放入真空雾化制粉设备的熔炼炉中,用55kw的功率将银熔化得到熔液,将温度控制在1260℃;之后向熔液中加入铬0.7份,以18kw的功率熔炼8分钟;之后向熔液中加入钪1.9份,以49kw的功率熔炼15分钟,温度升至1510℃;之后向熔液中加入镍块3.3份、铪块2.3份、钴块1.7份和2.36份海绵钒,以70kw的功率熔炼,将温度升至1730℃,精炼10分钟;之后向熔液中加入3.24份V32N26粉末,以50kw的功率精炼30min;之后气雾化成120-180目的粉末;

(3)混粉:将上述所得粉末按比例与39份80-150目的硅粉混合,用V型混料机混合2小时;取出所得粉末,放入烘箱,以50℃烘烤12小时,待用;

(4)制成旋转硅银靶材:将前述所得混合粉末用等离子喷涂的工艺喷涂在不锈钢衬管上,得到旋转硅银靶材。

所述旋转硅银靶材密度6.02g/cm3,电阻率1.86>

实施例6

合金比例:硅42份,银38份,铪2.1份,钪1.9份,铝4.3份,钒5.6份,镍3.2份,铬0.6份,钴1.6份,氮0.7份,硫0.008份。

所述硅银靶材的制备方法,步骤为:

(1)铝锭和三硫化二铝熔化、制粉:向真空雾化制粉设备的熔炼炉中放入称量好的铝锭4.3份,用50kw的功率将铝锭熔化得到铝熔液,保温温度控制为880℃,保温时间为10min;之后向熔液中加入0.0125份三硫化二铝粉末,以25kw的功率熔炼30min;之后气雾化成100-150目的粉末;

(2)银、镍、钒、V32N26、钪、铪、钴和铬的熔化、制粉:将称量好的银块38份放入真空雾化制粉设备的熔炼炉中,用50kw的功率将银熔化得到熔液,将温度控制在1260℃;之后向熔液中加入铬0.6份,以20kw的功率熔炼8分钟;之后向熔液中加入钪1.9份,以45kw的功率熔炼15分钟,温度升至1570℃;之后向熔液中加入镍块3.2份、铪块2.1份、钴块1.6份和2.52份海绵钒,以65kw的功率熔炼,将温度升至1730℃,精炼10分钟;之后向熔液中加入3.78份V32N26粉末,以45kw的功率精炼30min;之后气雾化成120-180目的粉末;

(3)混粉:将上述所得粉末按比例与42份80-150目的硅粉混合,用V型混料机混合2小时;取出所得粉末,放入烘箱,以50℃烘烤12小时,待用;

(4)制成旋转硅银靶材:将前述所得混合粉末用等离子喷涂的工艺喷涂在不锈钢衬管上,得到旋转硅银靶材。

所述旋转硅银靶材密度5.82g/cm3,电阻率3.52>

实施例7

合金比例:硅46份,银34份,铪2.5份,钪0.9份,铝4.8份,钒4.9份,镍4.5份,铬0.9份,钴1.1份,氮0.4份,硫0.004份。

所述硅银靶材的制备方法,步骤为:

(1)铝锭和三硫化二铝熔化、制粉:向真空雾化制粉设备的熔炼炉中放入称量好的铝锭4.8份,用50kw的功率将铝锭熔化得到铝熔液,保温温度控制为880℃,保温时间为10min;之后向熔液中加入0.0062份三硫化二铝粉末,以20kw的功率熔炼30min;之后气雾化成100-150目的粉末;

(2)银、镍、钒、V32N26、钪、铪、钴和铬的熔化、制粉:将称量好的银块34份放入真空雾化制粉设备的熔炼炉中,用50kw的功率将银熔化得到熔液,将温度控制在1260℃;之后向熔液中加入铬0.9份,以25kw的功率熔炼8分钟;之后向熔液中加入钪0.9份,以45kw的功率熔炼15分钟,温度升至1560℃;之后向熔液中加入镍块4.5份、铪块2.8份、钴块1.1份和3.14份海绵钒,以60kw的功率熔炼,将温度升至1750℃,精炼10分钟;之后向熔液中加入2.16份V32N26粉末,以45kw的功率精炼30min;之后气雾化成120-180目的粉末;

(3)混粉:将上述所得粉末按比例与46份80-150目的硅粉混合,用V型混料机混合2小时;取出所得粉末,放入烘箱,以50℃烘烤12小时,待用;

(4)制成旋转硅银靶材:将前述所得混合粉末用等离子喷涂的工艺喷涂在不锈钢衬管上,得到旋转硅银靶材。

所述旋转硅银靶材密度5.52g/cm3,电阻率8.96>

实施例8

合金比例:硅50份,银29份,铪2.8份,钪0.9份,铝4.8份,钒4.9份,镍4.5份,铬0.9份,钴1.9份,氮0.3份,硫0.007份。

所述硅银靶材的制备方法,步骤为:

(1)铝锭和三硫化二铝熔化、制粉:向真空雾化制粉设备的熔炼炉中放入称量好的铝锭4.8份,用45kw的功率将铝锭熔化得到铝熔液,保温温度控制为880℃,保温时间为10min;之后向熔液中加入0.011份三硫化二铝粉末,以20kw的功率熔炼30min;之后气雾化成100-150目的粉末;

(2)银、镍、钒、V32N26、钪、铪、钴和铬的熔化、制粉:将称量好的银块29份放入真空雾化制粉设备的熔炼炉中,用50kw的功率将银熔化得到熔液,将温度控制在1260℃;之后向熔液中加入铬0.9份,以25kw的功率熔炼8分钟;之后向熔液中加入钪0.9份,以55kw的功率熔炼15分钟,温度升至1590℃;之后向熔液中加入镍块4.5份、铪块2.8份、钴块1.9份和3.58份海绵钒,以60kw的功率熔炼,将温度升至1750℃,精炼10分钟;之后向熔液中加入1.62份V32N26粉末,以45kw的功率精炼30min;之后气雾化成120-180目的粉末;

(3)混粉:将上述所得粉末按比例与50份80-150目的硅粉混合,用V型混料机混合2小时;取出所得粉末,放入烘箱,以50℃烘烤12小时,待用;

(4)制成旋转硅银靶材:将前述所得混合粉末用等离子喷涂的工艺喷涂在不锈钢衬管上,得到旋转硅银靶材。

所述旋转硅银靶材密度5.16g/cm3,电阻率13>

从以上实施例可以看出,综合考虑成本、溅射效率、隔热性、房间内的亮度和反射噪光的因素,实施例6是比较理想的。

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