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用于干蚀刻机台的下电极结构及干蚀刻机台

摘要

本发明提供了一种用于干蚀刻机台的下电极结构,其包括:绝缘部,包括相对的第一表面和第二表面;电极部,设置于第二表面上;顶针孔,贯穿绝缘部和电极部,所述第一表面与顶针孔的内表面的连接处形成台阶;顶针,包括针杆以及连接于针杆一端的托盘;当顶针承载被处理的基板至所述第一表面上时,托盘的端部位于台阶上,以将顶针孔的在所述第一表面上的开口封闭,针杆位于顶针孔中。本发明还提供了一种具有该下电极结构的干蚀刻机台。本发明在承载于绝缘部的表面上的被处理的基板出现翘曲现象时,由于托盘将顶针孔在绝缘部的表面上的开口封闭,这样周围环境中的等离子体(plasma)不会进入顶针孔内,从而避免电极部被电弧击伤(arcing)。

著录项

  • 公开/公告号CN107393803A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2017-11-24

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 武汉华星光电技术有限公司;

    申请/专利号CN201710628785.0

  • 发明设计人 张佳;张占东;

    申请日2017-07-28

  • 分类号

  • 代理机构深圳市铭粤知识产权代理有限公司;

  • 代理人孙伟峰

  • 地址 430070 湖北省武汉市东湖开发区高新大道666号生物城C5栋

  • 入库时间 2023-06-19 03:52:47

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-01-24

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):H01J37/32 申请公布日:20171124 申请日:20170728

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2017-12-22

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01J37/32 申请日:20170728

    实质审查的生效

  • 2017-11-24

    公开

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