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一种用于清洁干蚀刻机台下电极表面的清洁装置

摘要

本发明提供一种用于清洁干蚀刻机台下电极表面的清洁装置,包括手持杆和吸附主体,所述手持杆的一端与吸附主体固定连接,所述手持杆呈设置有多条相互独立的气流通道,所述吸附主体内部设有与所述气流通道相连通的管道,所述吸附主体还开设有若干通孔,所述若干通孔通过管道与手持杆中的气流通道连接。本发明的清洁装置在清洁干蚀刻机台下表面时清洁更干净,提高作业效率,干蚀刻装备在进行干蚀刻制程时产生的颗粒物的吸收清洁具有非常好的效果。

著录项

  • 公开/公告号CN107626686A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-01-26

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 武汉华星光电技术有限公司;

    申请/专利号CN201710910815.7

  • 发明设计人 王盼星;

    申请日2017-09-29

  • 分类号

  • 代理机构广州三环专利商标代理有限公司;

  • 代理人郝传鑫

  • 地址 430070 湖北省武汉市武汉东湖开发区高新大道666号生物城C5栋

  • 入库时间 2023-06-19 04:21:55

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-02-23

    实质审查的生效 IPC(主分类):B08B5/04 申请日:20170929

    实质审查的生效

  • 2018-01-26

    公开

    公开

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