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一种平行光微光斑光学关键尺寸分析装置及检测方法

摘要

本申请公开了一种平行光微光斑光学关键尺寸检测方法,采用该检测方法,能够分析微电子结构中垂直侧壁结构与非垂直侧壁结构。该检测方法先通过光谱仪检测到样品的关注参数曲线,再通过建立样品结构光栅周期、占空比、光栅厚度等关键尺寸信息的微电子周期结构物理模型,模拟计算出样品的零级衍射率曲线,并将模拟所得零级衍射率曲线与光谱仪检测到的零级衍射率曲线拟合分析,最终反演出待测微电子周期结构的关键尺寸。本申请公开了一种用于上述方法的检测装置,该装置能够检测分析微电子结构中垂直侧壁结构与非垂直侧壁结构,且对非垂直侧壁结构检测分析速度快。该方法及装置能够对非垂直侧壁结构进行快速检测分析。

著录项

  • 公开/公告号CN107345788A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2017-11-14

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国科学院福建物质结构研究所;

    申请/专利号CN201610289406.5

  • 发明设计人 陈树强;邓浩;朱振国;余金清;

    申请日2016-05-04

  • 分类号G01B11/00(20060101);

  • 代理机构11540 北京元周律知识产权代理有限公司;

  • 代理人张莹

  • 地址 350002 福建省福州市鼓楼区杨桥西路155号

  • 入库时间 2023-06-19 03:41:33

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-12-08

    实质审查的生效 IPC(主分类):G01B11/00 申请日:20160504

    实质审查的生效

  • 2017-11-14

    公开

    公开

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