基于机械刻划与金属催化刻蚀的硅微/纳结构制备方法

摘要

本发明公开了一种基于机械刻划与金属催化刻蚀的硅微/纳结构制备方法，该方法包括以下步骤：S1、硅片预处理：将硅片表面清洗干净后烘干得到样品A；S2、集成贵金属纳米薄膜：在样品A表面沉积一层粘附层后，再在其表面集成贵金属纳米薄膜，获得样品B；S3、机械刻划贵金属纳米薄膜：采用机械刻划在样品B的表面上进行刻划，以除去刻划部分的贵金属纳米薄膜，获得在任意需要位置、具有设定形状图案的样品C；S4、制备硅微/纳结构：将样品C放入氢氟酸和过氧化氢的混合溶液中，对其进行刻蚀，即可获得具有高深宽比的硅微/纳结构。总体而言，该制备方法具有成本低、操作简单和可定位加工的优点，有望规模化生产。