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半色调掩模、半色调掩模坯料及制造半色调掩模的方法

摘要

一种增加蚀刻停止层通用性的半色调掩模。所述半色调掩模(10)具有使用玻璃基板(S)的透光部分(TA);包括形成在所述玻璃基板上的第一半透光层(11)的第一半透光部分(HA);以及包括所述第一半透光层、叠加在所述第一半透光层上方的挡光层(13)和形成在所述第一半透光层与所述挡光层之间的蚀刻停止层(12)的挡光部分(PA)。所述第一半透光层和所述挡光层各自由铬或从由铬的氧化物、氮化物、碳化物、氧氮化物、氧碳化物、碳氮化物及氧碳氮化物组成的组中选择的至少一种形成。所述蚀刻停止层包括从由铁(Fe)、镍(Ni)和钴(Co)组成的组中选择的至少一种的第一元素及从由铝(Al)、硅(Si)、钛(Ti)、铌(Nb)、钽(Ta)、铪(Hf)和锆(Zr)组成的组中选择的至少一种的第二元素。

著录项

  • 公开/公告号CN101842744B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2013-01-02

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 爱发科成膜株式会社;

    申请/专利号CN200880114579.7

  • 发明设计人 影山景弘;山田文彦;

    申请日2008-10-29

  • 分类号G03F1/32(20120101);G03F1/80(20120101);H01L21/027(20060101);

  • 代理机构31242 上海金盛协力知识产权代理有限公司;

  • 代理人段迎春

  • 地址 日本国埼玉县

  • 入库时间 2022-08-23 09:12:39

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2013-01-02

    授权

    授权

  • 2010-11-10

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 1/08 申请日:20081029

    实质审查的生效

  • 2010-09-22

    公开

    公开

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