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一种低温无压烧结氮化硅陶瓷的制备方法

摘要

本发明涉及一种低温无压烧结氮化硅陶瓷的制备方法;以α‑氮化硅和烧结助剂总量为基准,α‑氮化硅的质量含量为75‑97%,加入烧结助剂质量含量为3‑25%,将混合粉体球磨混合、干燥;将混合粉料经过造粒、成型,制备出预备烧结体;将预备烧结体排胶后,在1500‑1600℃烧结,得到氮化硅陶瓷材料。本发明制备的低温烧结氮化硅陶瓷,克服了传统稀土氧化物助烧剂烧结温度高的缺点,在低温烧结下即可获得相对密度98%,弯曲强度671MPa,α‑氮化硅完全转化成β‑氮化硅的氮化硅陶瓷材料。

著录项

  • 公开/公告号CN107043263A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2017-08-15

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 天津大学;

    申请/专利号CN201710283968.3

  • 发明设计人 李晓雷;赵志浩;孙永强;季惠明;

    申请日2017-04-26

  • 分类号

  • 代理机构天津市北洋有限责任专利代理事务所;

  • 代理人王丽

  • 地址 300072 天津市南开区卫津路92号天津大学

  • 入库时间 2023-06-19 03:03:45

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-09-08

    实质审查的生效 IPC(主分类):C04B35/584 申请日:20170426

    实质审查的生效

  • 2017-08-15

    公开

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